华海清科:CMP设备自主创新驱动半导体制造升级 - 半导体设备制造 - 国尼卡

华海清科:CMP设备自主创新驱动半导体制造升级

半导体设备制造 查询: 华海清科
关键词: 华海清科
摘要:华海清科专注CMP设备研发生产,源于清华技术,助力晶圆平坦化工艺,提升产业效率与良率。

华海清科成立于2013年,依托清华大学摩擦学实验室核心知识产权,开发12英寸以上晶圆CMP设备,实现纳米级精度抛光,降低缺陷率达20%。

产品广泛应用于逻辑芯片与存储器制造,优化CMP工艺参数,显著提升良率与产能,助力客户降低设备投资成本,推动半导体供应链国产化。

相关行业报告

作为科创板上市公司,公司持续投入R&D,扩展CMP耗材服务,增强商业价值,预计2025年营收增长15%以上。

发布时间:2025-11-28
参与行业讨论

与行业专家和同行交流,分享您的见解和经验

相关文章

全球主要光刻机制造公司及其在半导体产业中的关键作用

本文概述光刻机生产企业,聚焦其技术创新与市场影响。

2026-01-26
中国光刻机产业领军企业:技术突破与国产化进程加速

探讨国内光刻机龙头企业的技术创新、市场地位及对半导体产业的贡献。

2026-01-24
芯源微:国内高端半导体涂胶显影设备领军企业技术创新与应用

芯源微专注半导体生产设备研发,涂胶显影机获国家级单项冠军,助力先进封装与集成电路制造。

2026-01-23
全球激光光刻设备主要厂商及其技术创新概述

激光光刻设备厂商以ASML领先,推动EUV和DUV技术创新,提升半导体制造精度。

2026-01-18
2025年领先等离子体清洗机厂家推荐:技术创新与应用优势分析

介绍国内顶级等离子体清洗机厂家,聚焦RF等离子技术在半导体行业的应用与选购要点。

2025-12-17
盛美半导体2025半年报剖析:营收56.18亿元增长44.48%,净利润11.53亿元

盛美半导体上半年业绩强劲,受益半导体行业复苏,设备研发中心投产提升产能。

2025-12-12