光刻机制造技术创新：精密工艺驱动半导体产业商业价值跃升

光刻机制造核心在于EUV光源与多层反射镜精度控制，确保亚10nm分辨率。该技术提升芯片良率，支撑AI与5G应用需求。

国产化进程加速模块化设计与供应链本土化，降低成本30%以上。精密光学组装标准化，推动全球市场份额扩张。

市场规模逾150亿美元，年增长率达12%。投资光刻机制造可获高ROI，助力数字经济转型与产业升级。