开创半导体革命：世界上第一个光刻机的诞生与商业影响

20世纪50年代，Jay Lathrop在贝尔实验室发明首个接触式光刻机，利用紫外光将掩膜图案转移至硅片，实现高精度微观结构刻蚀，标志半导体工艺革命。

这一技术提升晶体管集成密度，支持摩尔定律，Fairchild半导体借此主导IC市场，商业价值超百亿美元，推动全球电子产业爆发式增长。