超纯水机在半导体与制药工业中的核心用途及商业价值

超纯水机通过反渗透与EDI技术产出电阻率18.2 MΩ·cm纯水，广泛用于半导体晶圆清洗，移除微量离子与颗粒，确保芯片制造无污染。

在制药工业中，超纯水机满足GMP标准，提供无菌纯水用于药物配制与设备冲洗，显著降低生产风险并提升合规性。

采用超纯水机可优化水循环利用率，减少废水排放成本，推动绿色制造，实现工业生产的可持续商业价值。