2024上海微电子28nm光刻机交付：国产突破助力半导体自主升级

上海微电子2024年1月成功交付SSA800 28nm浸没式光刻机给中芯国际。该设备采用氟化氩DUV技术，支持高精度曝光，标志国产光刻从90nm向28nm跃进。

突破实现90%国产化，售价较进口低40%，助力下游企业加速28nm芯片量产，增强供应链韧性，注入半导体产业新活力。