EUV光刻机：半导体纳米制造核心技术，推动芯片产业高效升级

EUV光刻机利用13.5nm波长光源，突破传统DUV极限，支持5nm及以下节点集成电路制造，提高分辨率并降低多重曝光成本。

在商业应用中，EUV技术显著缩短生产周期，优化供应链效率，助力企业如TSMC实现高性能芯片规模化，预计市场规模超百亿美元。

未来，EUV光刻机将融合AI优化曝光参数，进一步提升良率，推动汽车电子与5G领域创新应用。