中国芯片光刻机国产化突破：核心技术自主与产业升级价值

中国企业攻克EUV光刻机曝光系统瓶颈，实现28nm以下工艺国产化，显著降低进口依赖，推动半导体供应链优化。

自主光刻机部署将助力5G、AI芯片高效生产，预计释放千亿级市场空间，提升制造业整体商业价值。

未来需强化光刻胶与掩膜版生态建设，确保技术迭代与国际标准接轨，驱动产业高质量发展。