高纯钇靶材：提升薄膜沉积效率与半导体产业商业价值

高纯钇靶材采用真空熔炼与热等静压工艺制备，纯度达99.999%，确保溅射沉积层无杂质，提升薄膜光学与电学性能。

在半导体与光学涂层领域，钇靶材优化等离子体稳定性，降低材料损耗20%，助力企业缩短周期、扩大产能，实现高ROI。

随着5G与光伏需求激增，钇靶材市场规模预计年增15%，推动供应链本土化，强化产业竞争力。