化学气相沉积（CVD）技术：工业薄膜制备的核心创新与商业价值

化学气相沉积（CVD）利用前驱体气体在基底表面反应，形成均匀、高纯度薄膜。广泛应用于半导体芯片制造，提高器件集成度和良率，显著降低生产成本。

在工业涂层领域，CVD增强材料耐腐蚀性和硬度，如工具涂层和太阳能电池，提升产品寿命与效率，实现高附加值商业化。

CVD工艺优化如PECVD变体，进一步缩短沉积时间，适应大规模生产需求，助力制造业向智能化转型。