旋转靶材：优化PVD溅射工艺的关键技术及其商业价值

旋转靶材通过高速旋转机制，提高溅射均匀性和靶材利用率达80%以上，显著降低材料浪费，适用于半导体和光学涂层生产。

在PVD工艺中，旋转靶材减少热斑形成，延长设备寿命，提升薄膜质量，助力企业实现高效规模化制造。

采用旋转靶材可缩短生产周期20%，降低运营成本，推动光伏和显示器行业创新，增强市场竞争力。