膜厚测试技术：提升精密涂层制造效率与质量控制的核心工具

在半导体和光学涂层领域，膜厚测试采用椭偏仪或X射线荧光法，实现亚纳米级精度测量，避免过薄或过厚导致的性能衰减，提高良率达15%。

自动化膜厚测试系统集成AI算法，实时反馈调整溅射参数，缩短生产周期20%，显著降低材料浪费，实现绿色制造与成本优化。

企业引入膜厚测试标准，可符合ISO认证，提升供应链信任，开拓高端市场，预计ROI在6个月内回收。