国产光刻机厂突破关键技术：加速半导体产业链自主化进程

国产光刻机厂通过优化光学系统和精密对准技术，成功量产28nm级光刻设备，降低芯片制造成本20%以上。

工厂引入自动化生产线与AI优化算法，提升良率至95%，为下游晶圆厂提供稳定供应，推动产业链价值链重塑。

未来，国产光刻机厂将深化5nm工艺研发，助力国家半导体战略，预计市场份额达30%。