高纯氙气在半导体蚀刻工艺中的纯度控制与应用优化

高纯氙气作为等离子体蚀刻气体，其纯度需达99.999%以上，以确保芯片图案精确性。工业生产中，采用低温精馏和吸附净化技术，提升气体稳定性。

在LED照明和医疗成像领域，高纯氙气提供高效光源和X射线激发。企业通过供应链优化，降低成本并满足环保标准。