超纯化水系统采用多级过滤、反渗透和EDI技术,确保水质电阻率达18.2 MΩ·cm,满足半导体晶圆清洗需求,避免污染物干扰工艺稳定性。
系统设计注重模块化集成,便于维护与扩展。通过实时监测pH、TOC和离子浓度,实现自动化调控,降低运营成本并提升生产效率。
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在制药领域,超纯水系统符合GMP标准,支持注射剂配制与设备清洗,保障产品质量与合规性,推动行业可持续发展。
超纯化水系统采用多级过滤、反渗透和EDI技术,确保水质电阻率达18.2 MΩ·cm,满足半导体晶圆清洗需求,避免污染物干扰工艺稳定性。
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