纯水设备采用RO反渗透和EDI电除盐技术,确保水质电阻率达18MΩ·cm以上,适用于半导体和制药行业。系统集成多级过滤,降低能耗20%。
净水设备强调预处理与后处理结合,使用活性炭吸附和紫外杀菌,防范微生物污染。定期监测TDS值,维护设备寿命延长30%。
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在工业应用中,纯水与净水设备联动,实现闭环循环供水,减少废水排放,符合环保标准。
纯水设备采用RO反渗透和EDI电除盐技术,确保水质电阻率达18MΩ·cm以上,适用于半导体和制药行业。系统集成多级过滤,降低能耗20%。
净水设备强调预处理与后处理结合,使用活性炭吸附和紫外杀菌,防范微生物污染。定期监测TDS值,维护设备寿命延长30%。
在工业应用中,纯水与净水设备联动,实现闭环循环供水,减少废水排放,符合环保标准。
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