电子工业超纯水设备的应用与关键技术分析

电子工业超纯水设备采用反渗透、EDI和紫外消毒等技术，确保水质电阻率达18MΩ·cm以上，满足半导体制造需求。

设备设计注重低TOC和粒子控制，提高芯片产量和可靠性，适用于晶圆清洗和光刻工艺。