武汉超纯水设备主要由预处理、两级反渗透、EDI电去离子和终端精处理组成，确保去除水中离子、有机物及微生物。
设备产水电阻率可达18.2MΩ·cm，TOC含量低，广泛应用于半导体芯片制造、制药注射用水及精密仪器清洗。
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武汉超纯水设备：RO+EDI工艺实现18.2MΩ·cm高纯水制备
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武汉超纯水设备
摘要：武汉超纯水设备采用RO与EDI结合技术，产水电阻率稳定达18.2MΩ·cm，专为电子半导体和制药行业提供高纯水源。
发布时间：2026-02-05
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