氢氟酸浓度精准测控技术在半导体蚀刻工艺中的应用

氢氟酸（HF）浓度通常以质量百分比表示，常见范围5%-50%。采用酸碱滴定或电导率法测定，确保蚀刻均匀性，避免过蚀或欠蚀现象。

在半导体制造中，浓度波动控制在±0.5%以内，使用在线监测系统实时调整。严格遵守PPE防护规范，防范HF腐蚀风险，提升工艺安全与产量。