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中国首台3纳米光刻机突破性问世：半导体自主化注入强劲动力
中国首台3纳米光刻机成功研制，采用EUV技术，实现高精度芯片刻蚀，助力国产半导体产业链升级，提升全球市场竞争力。
半导体制造
2025-11-28