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中国光刻机自主化进展：2025年EUV试产启动，半导体供应链重塑机遇
中国SMEE 28nm DUV光刻机良率超93%，EUV计划2026量产，助力芯片制造自主可控，提升全球竞争力。
半导体工业
2025-11-24