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2纳米光刻机革命：High-NA EUV技术驱动半导体微缩与万亿市场机遇
2nm光刻机采用高NA EUV系统，实现亚2nm分辨率，提升芯片性能，助力AI与高性能计算，商业价值超预期。
半导体制造
2025-11-08