搜索结果：中国光刻机进展
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2025年中国光刻机突破：EUV试产启动，DUV28nm验证完成，推动半导体自主化
2025年中国光刻机进展显著，EUV采用LDP技术进入试产，DUV浸没式验证成功，加速芯片产业链升级。
半导体制造
2025-11-23