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中国光刻机自主突破：SMEE 28nm DUV良率超93%，EUV 2026年量产提速半导体供应链
SMEE宣布28nm DUV光刻机良率突破93%，EUV高端机型计划2026年量产，标志国产化进程加速。
半导体制造
2025-11-23