全球光刻机主要生产厂家及其在半导体制造中的核心作用

ASML作为全球领先的光刻机制造商，主导EUV光刻技术，提供高精度设备，支持7nm以下芯片生产，提升半导体产业效率。

Nikon和Canon是日本主要厂家，专注于ArF浸没式光刻机，适用于逻辑和存储芯片制造，以可靠性和成本效益著称。

这些厂家通过持续研发，推动光刻分辨率提升，确保半导体供应链稳定，促进电子产品创新发展。