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光刻机制造的极致难题：纳米精密工程与全球半导体战略壁垒
光刻机作为芯片核心设备，其制造难度居于工程巅峰，涉及EUV光学与纳米对准。本文剖析技术挑战及千亿商业价值。
半导体设备制造
2025-11-08