半导体工业资讯
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俄罗斯公布EUV光刻机路线图：三步走至2037年实现亚10nm制程自主化
俄罗斯科学院发布EUV光刻机发展路线图，2026年起分三阶段推进，目标2037年实现10nm以下制程，提升半导体产业全球竞争力。
半导体工业
2025-11-23
阿尔巴尼：半导体制造创新中心与产业链商业价值
阿尔巴尼依托纳米技术和GlobalFoundries集群，推动半导体产业升级，吸引投资并提升供应链效率，实现高ROI增长。
半导体工业
2025-11-23
半导体除湿机有用吗？揭秘其在精密制造中的湿度控制价值与经济效益
半导体除湿机通过TEC技术精准调控湿度，提升半导体生产良率，降低缺陷风险，具有显著工业实用性和商业回报。
半导体工业
2025-11-22
新凯来光刻机：国产28nm浸润式技术突破，赋能半导体产业链自主升级
新凯来光刻机实现高精度套刻与DUV工艺创新，支持5nm节点，降低ASML依赖，提升中国芯片制造商业效率。
半导体工业
2025-11-22