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光刻机与刻蚀机区别解析：半导体制造核心工艺环节及商业价值
光刻机与刻蚀机是半导体工艺关键设备，前者转移图案，后者去除材料，二者协同提升芯片精度与产量，驱动电子产业竞争优势。
半导体工业
2025-11-25