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国产光刻机新凯来：突破光源与光学系统实现28nm工艺
新凯来推出国产光刻机，集成自主DUV光源与高精度投影镜头，支持28nm节点芯片量产，推动半导体设备自主可控。
半导体设备制造业
2026-01-27