EUV光刻机国产化加速：技术突破驱动半导体产业链自主升级

EUV光刻机核心于7nm以下节点，其国产化聚焦光源、掩膜与投影系统研发。近期原型验证成功，预计2026年量产，成本降幅达25%。

国产EUV将重塑全球供应链，增强芯片企业议价能力，推动先进制程创新，实现产业链价值倍增与国家战略自主。