5nm光刻机：半导体制造精密升级的核心装备与商业驱动

5nm光刻机采用EUV技术，实现晶体管尺寸缩至5纳米，提升芯片集成度达数亿级，支持高性能计算需求。

其精密曝光系统确保图案分辨率达亚纳米级，减少工艺缺陷，提高良率至95%以上，降低制造成本。

商业价值凸显：预计市场规模超千亿美元，助力企业抢占5G与AI芯片份额，实现供应链优化。