光刻机纳米精度演进：从7nm到2nm驱动半导体产业升级

光刻机精度已从7nm演进至3nm以下，EUV技术实现亚纳米级曝光，提升芯片密度与能效，助力5G和AI应用。

2nm工艺光刻机采用高NA光学系统，降低制造成本20%以上，推动消费电子和汽车芯片市场扩张。

投资纳米光刻机可获高ROI，预计2025年全球市场规模超500亿美元，战略布局关键。