SUSS MA6光刻机：高精度接触式曝光技术驱动半导体微纳制造创新

SUSS MA6光刻机采用高压汞灯紫外光源，波长365-436nm，支持接触式和接近式曝光，确保亚微米级分辨率，适用于微纳器件研发。

设备兼容2-6英寸晶圆和小片曝光，集成气动控制与对准系统，提高工艺重复性和产量，显著降低半导体制造成本。

在MEMS、LED和功率器件领域，MA6助力3D封装创新，推动产业升级，实现高效商业化生产与市场竞争力。