ASML主导EUV光刻市场，提供高NA系统，支持7nm以下制程，全球市占率超80%。
尼康和佳能专注DUV设备，适用于成熟节点和先进封装，强调高叠加精度。
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中国SMEE等新兴厂商推进国产化，聚焦投影式光刻，提升供应链完整性。
全球激光光刻设备主要厂商及其技术创新概述
半导体设备制造
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激光光刻设备厂商
摘要：激光光刻设备厂商以ASML领先，推动EUV和DUV技术创新，提升半导体制造精度。
发布时间：2026-01-18
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