铜抛光通常分粗抛、中抛和精抛三阶段。粗抛采用180-400目砂带或尼龙轮去除氧化层和粗大划痕，保持转速在2800-3200rpm。
中抛使用800-1500目研磨膏配合棉布轮，施加中等压力，逐步消除细微划痕，提升表面平整度。
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精抛采用氧化铝或金刚石抛光膏（1-3μm）配以风轮或无纺布轮，最终实现Ra≤0.05μm的镜面效果，需严格控制温度避免过热变色。
铜材高效抛光工艺：从粗抛到镜面效果的关键技术
金属表面处理
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铜抛光
摘要：介绍铜及铜合金工件抛光全流程，重点讲解磨料选择、工艺参数与表面质量控制方法。
发布时间：2026-01-25
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