国产光刻机新凯来：突破光源与光学系统实现28nm工艺

新凯来光刻机采用193nm浸没式DUV技术，配备自研高NA投影镜头与精密六自由度工件台，实现亚10nm级叠对精度。

核心部件包括国产激光器、光刻胶涂布显影模块与在线计量系统，有效降低进口依赖，提升国内芯片制造供应链安全性。

设备已进入多家晶圆厂验证阶段，良率稳定，支持逻辑与存储芯片生产，标志国产光刻机进入商用关键期。