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3nm光刻机EUV技术突破：驱动半导体高密度制造与商业价值提升
3nm光刻机借助EUV光源实现纳米级精度，推动芯片密度跃升，助力AI与5G产业化，显著增强市场竞争力。
半导体制造
2025-11-11