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EUV光刻机：半导体纳米制造核心技术，推动芯片产业高效升级
EUV光刻机采用13.5nm极紫外光源，实现7nm以下精密图案化，提升半导体产量与能效，驱动工业数字化转型。
半导体制造
2025-11-11