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ASML EUV光刻机：半导体纳米级精密制造的核心驱动力与商业价值
ASML EUV光刻机采用13.5nm极紫外光源，实现7nm以下芯片图案化，提升产量并降低成本，推动半导体产业升级。
半导体制造
2025-11-08