半导体工业资讯
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中国光刻机自主化进展:2025年EUV试产启动,半导体供应链重塑机遇
中国SMEE 28nm DUV光刻机良率超93%,EUV计划2026量产,助力芯片制造自主可控,提升全球竞争力。
半导体工业
2025-11-24
俄罗斯公布EUV光刻机路线图:三步走至2037年实现亚10nm制程自主化
俄罗斯科学院发布EUV光刻机发展路线图,2026年起分三阶段推进,目标2037年实现10nm以下制程,提升半导体产业全球竞争力。
半导体工业
2025-11-23