半导体制造资讯
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中国光刻机EUV突破：3纳米试生产，国产化提速半导体供应链
中国EUV光刻机2025年Q3试产3纳米，28nm DUV良率93%，创新LDP技术降低成本，推动产业自主。
半导体制造
2025-11-24
中国光刻机自主突破：SMEE 28nm DUV良率超93%，EUV 2026年量产提速半导体供应链
SMEE宣布28nm DUV光刻机良率突破93%，EUV高端机型计划2026年量产，标志国产化进程加速。
半导体制造
2025-11-23
CVD设备用途详解：化学气相沉积在半导体与涂层工业的核心应用
CVD设备通过化学气相沉积实现精密薄膜涂层，提升材料性能，广泛服务半导体、光伏等领域，推动工业效率与商业价值。
半导体制造
2025-11-23
2025年中国光刻机突破：EUV试产启动，DUV28nm验证完成，推动半导体自主化
2025年中国光刻机进展显著，EUV采用LDP技术进入试产，DUV浸没式验证成功，加速芯片产业链升级。
半导体制造
2025-11-23
中国光刻机真实水平：DUV浸润式突破28nm，产业链国产化提速商业机遇
剖析中国光刻机技术现状，DUV领域接近量产28nm，聚焦成熟制程国产化，推动半导体产业自主可控。
半导体制造
2025-11-23
KITZ SCT：引领半导体制造超高纯度阀门技术创新与高效应用
KITZ SCT作为全球领先的UHP组件制造商，提供半导体气体和化学品输送系统阀门，提升生产效率与可靠性。
半导体制造
2025-11-23